日本(běn)電子JEOL場發射透射電鏡F200詳細說明 ：

日本(běn)電子JEOL場發射透射電鏡F200JEM-F200的外觀和(hé)操作模式基於“智能化”的理念(niàn)進行了全新(xīn)的設(shè)計。全新(xīn)的人機界面使得(dé)用戶(hù)可以專注於電鏡觀察和(hé)分析工(gōng)作 。得(dé)益於日本(běn)電子在電子光學(xué)領域(yù)多年的積累，新(xīn)設(shè)備採用了球差電鏡的高穩定(dìng)度的設(shè)計理念(niàn)，該設(shè)備的機械穩定(dìng)度和(hé)電氣穩定(dìng)度得(dé)以大大改善，從而可以保證更加出色的性能 。

JEM-F200 配(pèi)置肖特基場發射電子槍，或者冷場發射電子槍*，高亮度和(hé)高穩定(dìng)性的場發射電子槍可以極(jí)大提高觀察和(hé)分析效率。

對於冷場電子槍 ，可以獲得(dé)更高亮度和(hé)更小能量發散度的電子源，亮度高於8x108A/cm2·sr ，能量發散度可以低至(zhì)0.3eV ，在圖像質量和(hé)分析效果上(shàng)更勝yichou，更適合行高能量分辨(biàn)率的EELS分析 ，可以對樣品(pǐn)進行精細的化學(xué)結合態分析。

JEM-F200上(shàng)引入了全新(xīn)的四級聚(jù)光鏡設(shè)計，可以滿(mǎn)足日益增加的各種應用 。在這個全新(xīn)系統的支持下(xià) ，前兩級聚(jù)光鏡可以控制束斑尺(chǐ)寸和(hé)束流強度 ，其形成的電子東交叉點可以固定(dìng)在特定(dìng)的位置
，然後通過後兩級聚(jù)光鏡實(shí)現照明區域(yù)和(hé)匯聚(jù)角度的控制 。除此外，在TEM模式成像中非常重要的平行光照明模式可以像傳統電鏡一樣輕(qīng)松實(shí)現 。該系統的使用可以輕(qīng)松得(dé)到高質量的明場和(hé)暗場圖像。